P03900 - SEMI P39 - OASISTM – オープン・アートワーク・システム・インターチェンジ・スタンダード（OPEN ARTWORK SYSTEM INTERCHANGE STANDARD） Revision:SEMI P39-0308 - Superseded including leading IDM

including leading IDM

SEMI G19-84 (first published)

6-0703 (Reapproved 0218)

1-0707 - 装置性能トラッキング（EPT）のSECS-II プロトコル仕様

This Guide represents the range of conditions in which equipment should be capable of operating

P03900 - SEMI P39 - OASISTM – オープン・アートワーク・システム・インターチェンジ・スタンダード（OPEN ARTWORK SYSTEM INTERCHANGE STANDARD） Revision:SEMI P39-0308 - Superseded including leading IDMglobal Micropatterning Committee2008118global Audits and Reviews Subcommittee20082www. semi. org20083CD ROM20043200511 2001SEMIData Path Task ForceGDSIIGDSIIIC201632 GDSII1 163264 SEMI Data Path Task ForceInternational SematechEDASematech Referenced SEMI Standards None.